【摘 要】
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采用水热法在Ti片上成功地制备出MoO3纳米阵列膜,并利用其作为氧化剂和基底,将纳米Al粒子电泳沉积到其表面制备出纳米阵列式MoO3/Al复合含能膜。通过X射线衍射法(XRD)、场发射
【机 构】
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华电电力科学研究院有限公司,重庆大学
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目(批准号:61271059)
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采用水热法在Ti片上成功地制备出MoO3纳米阵列膜,并利用其作为氧化剂和基底,将纳米Al粒子电泳沉积到其表面制备出纳米阵列式MoO3/Al复合含能膜。通过X射线衍射法(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)、全自动比表面积及孔隙分析仪(BET)和差示扫描量热仪(DSC)对样品进行表征,考察了纳米Al粒子电泳沉积时间对复合含能膜放热性能的影响。结果表明,MoO3纳米阵列膜主要由热力学稳定的正交相MoO3纳米线阵列构成,此结构显著增大了MoO3的比表面积,更有利于Al和MoO3有效接触,提高二者的反应
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