【摘 要】
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采用双孤磁过滤真空弧源,在钴铬合金基体上成功地沉积了Ti/DLC多层膜,其钛过渡层利用不同的负偏压来制备。利用纳米划痕法来评价薄膜的膜基结合力,类金刚石薄膜的摩擦性能在
【机 构】
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西南交通大学材料工程学院生物材料及表面工程研究所
【基金项目】
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国家高技术研究发展计划（863计划）资助项目（2006AA02A135）
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采用双孤磁过滤真空弧源,在钴铬合金基体上成功地沉积了Ti/DLC多层膜,其钛过渡层利用不同的负偏压来制备。利用纳米划痕法来评价薄膜的膜基结合力,类金刚石薄膜的摩擦性能在销盘式摩擦磨损试验机进行测试。划痕法的结果均表明,增加钛的过饺屡后薄膜的结合状况得到明显的改善,纳米划痕法测试膜基结合力表明其临界载荷可达到740mN,摩擦磨损实验可以看出镀膜后的样品的摩擦系数均在0.1左右,DLC薄膜可极大地改善钴铬合金的摩擦学性能。
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