【摘 要】
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采用中频磁控溅射法在玻璃基体上制备Al掺杂ZnO薄膜（AZO）,分别利用扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）、X射线衍射仪（XRD）、分光光度计及霍尔测试系统研究不同沉积条件如样品台
【机 构】
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广东省现代表面工程技术重点实验室,广州有色金属研究院新材料研究所
【基金项目】
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Project（51302044）supported by the National Natural Science Foundation of China, Project（2012M521596）supported by the Chinese Postdoctoral Science Foundation, Project（KLB11003）supported by the Key Labo
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采用中频磁控溅射法在玻璃基体上制备Al掺杂ZnO薄膜（AZO）,分别利用扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）、X射线衍射仪（XRD）、分光光度计及霍尔测试系统研究不同沉积条件如样品台转速和靶-基距离对薄膜光学、电学、微观形貌及晶体结构的影响。XRD结果表明,所有AZO薄膜都呈c轴择优取向,薄膜的结晶度随着样品台转速的增大而降低,且晶粒呈非平衡状态生长。而在不同的靶-基距离时,薄膜具有相似的微观结构和表面形貌。当样品台转速为0、靶-基距离为7 cm时,AZO薄膜的光电性能最好,载流子浓度和霍尔迁
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