【摘 要】
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对直流磁控溅射Si和玻璃衬底[Cot/Fe3t]5(t=2,3,4,5nm)多层膜的磁性能进行了比较.对于t相同但衬底不同的样品,实验发现饱和磁化强度相差很小,但是矫顽力却相差很大.对矫顽力
【机 构】
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安徽工业大学材料科学与工程学院,中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室 马鞍山243002,北京100080
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对直流磁控溅射Si和玻璃衬底[Cot/Fe3t]5(t=2,3,4,5nm)多层膜的磁性能进行了比较.对于t相同但衬底不同的样品,实验发现饱和磁化强度相差很小,但是矫顽力却相差很大.对矫顽力差异的理论分析表明,多层膜的粗糙度和畴壁类型是引起这种差异的主要原因.
The magnetic properties of DC magnetron sputtered Si and glass [Cot / Fe3t] 5 (t = 2, 3, 4, 5nm) multilayer films were compared.For the same samples with different substrates, The difference of saturation magnetization is very small, but the coercive force is quite different. The theoretical analysis of the difference of coercive force shows that the roughness of multi-layer film and the type of domain wall are the main causes of this difference.
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