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反射电子抑制技术和新型电子枪(BS-60050EBS)
反射电子抑制技术和新型电子枪(BS-60050EBS)
来源 :光学仪器 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hebeikbyz
【摘 要】
:
在使用电子束真空镀膜时所产生的反射电子有可能射入基板,造成MgF2等不稳定化合物薄膜吸收的增加,另外在使用萤石(CaF2)基板时则会造成基板变色等问题。BS-60050EBS电子枪优化了
【作 者】
:
东乡永耀
菅原康司
【机 构】
:
日本电子株式会社
【出 处】
:
光学仪器
【发表日期】
:
2008年3期
【关键词】
:
反射电子
电子枪
吸收
backscattered electron
electron beam source
absorption
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在使用电子束真空镀膜时所产生的反射电子有可能射入基板,造成MgF2等不稳定化合物薄膜吸收的增加,另外在使用萤石(CaF2)基板时则会造成基板变色等问题。BS-60050EBS电子枪优化了反射电子发生部分的磁场分布、能够有效地抑制反射电子射入基板、提高镀膜产品的质量。
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