几种先进光刻方法的比较

来源 :激光与光电子学进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:taishengqi_1
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随着集成电路功效越来越多,电路特征尺寸变得越来越小,超过制造电路图样的微光刻系统的分辨率和极限精度。今后几年,研究人员将寻求可使集成电路特征尺寸小至0.25μm的经济有效的光刻法。这些方法采用紫外光子、X As integrated circuits become more and more effective, circuit feature sizes become smaller and smaller, exceeding the resolution and limit accuracy of the microlithography system in which the circuit pattern is fabricated. In the next few years, researchers will look for cost-effective lithography that will reduce integrated circuit feature sizes down to 0.25μm. These methods use UV photons, X.
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