梯度α-Ta（N）／TaN扩散阻挡层的微结构与热稳性定

来源 :四川大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：hammil

【摘要】

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本文提出了一种梯度氮化法制备出低阻、高稳定性的α-Ta（N）／TaN双层Cu扩散阻挡层，该方法有效地避免了异质元素的引入和高N含量导致的高电阻率．用四点探针（FPP）、X射线衍射（XRD）、场发

【作者】

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刘春海尹旭安竹宋忠孝汪渊

【机构】

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四川理工学院材料与化学工程学院材料腐蚀与防护四川省重点实验室,四川大学原子核科学技术研究所教育部辐射物理及技术重点实验室,西安交通大学材料学院金属材料强度国家重点实验室

【出处】

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四川大学学报(自然科学版)

【发表日期】

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2012年1期

【关键词】

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扩散阻挡层电阻率热稳定性微结构 diffusion barrier resistivity thermal stability microstruc

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本文提出了一种梯度氮化法制备出低阻、高稳定性的α-Ta（N）／TaN双层Cu扩散阻挡层，该方法有效地避免了异质元素的引入和高N含量导致的高电阻率．用四点探针（FPP）、X射线衍射（XRD）、场发射扫描电子显微镜（FESEM）进行薄膜电性能和微结构的表征．分析结果表明，梯度氮化工艺能调控金属Ta膜的相结构，从而获得低阻α—Ta（N）／TaN双层Cu扩散阻挡层结构．高温老化退火的实验结果进一步证明此结构具有高的热稳定性，失效温度高达800℃．

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