煮糖结晶过程的动态矩阵控制研究

来源 :计算机测量与控制 | 被引量 : 0次 | 上传用户:bbx978
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由于煮糖结晶过程本身受干扰的因素比较多,如糖浆的锤度、糖浆杂质、真空度以及温度的变化都会影响蔗糖结晶过程,非线性比较强。因此一般的控制策略(比如常规PID)难以凑效,根据煮糖结晶过程的物料平衡、能量平衡和生产过程的各种物性参数的机理解析关系(如晶体生长分散)建立描述被控对象的模型,并以该模型作为预测模型对煮糖结晶过程实施动态矩阵控制(DMC).仿真结果表明该控制算法对煮糖过程的控制是有效的。
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