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碳纳米材料的研究已经成为当前国际上研究的热点之一。由于纳米结构碳膜具有低阈值电压和高发射电流的特性，因此其场发射研究越来越受到人们重视。本文采用电子回旋共振化学气相沉积(ECR.CVD)技术制备碳膜，此方法克服了一般CVD方法中的高温、高压条件下反应气体易与基片或设备发生反应的缺点，从而可获得高质量纳米结构碳膜。