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讨论了90／65nm芯片设计采用可制造性设计的必要性和优势。介绍了以RET／OPC为核心的可制造性设计。
光刻、OPC与DFM
【摘 要】
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讨论了90／65nm芯片设计采用可制造性设计的必要性和优势。介绍了以RET／OPC为核心的可制造性设计。
【机 构】
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无锡市罗特电子有限公司
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2006年4期
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