磁控溅射制备本征ZnO/Ag/ZnO透明导电薄膜的性质研究

来源 :发光学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:fengk9000
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室温下采用射频磁控溅射氧化锌(ZnO)粉末靶、银(Ag)靶,在玻璃衬底上制备ZnO/Ag/ZnO透明导电薄膜。首先,ZnO厚度为30nm时,改变Ag厚度制备3层透明导电薄膜,研究Ag层厚度及膜层间配比对光电性能的影响;其次,按ZnO∶Ag厚度比为30∶11比例制备不同厚度的3层透明导电薄膜,研究多层厚度对薄膜光电性能的影响。结果表明:Ag厚度为8nm及11nm的ZnO/Ag/ZnO表面相对平整,结晶程度较好,在可见光范围内最高透过率达到90%及86%,并且方块电阻为6Ω/□及3.20Ω/□,具有优良的光电
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