【摘 要】
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采用放电等离子烧结制备Nb-20Si、Nb-20Si-10Al和Nb-20Si-15Al合金,并研究其在800℃的氧化行为,利用XRD和SEM分别对合金氧化膜的相组成及形貌进行了观察和分析。结果表明,在N
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采用放电等离子烧结制备Nb-20Si、Nb-20Si-10Al和Nb-20Si-15Al合金,并研究其在800℃的氧化行为,利用XRD和SEM分别对合金氧化膜的相组成及形貌进行了观察和分析。结果表明,在Nb-20Si-15Al的氧化膜中存在玻璃态SiO2,使氧化膜平整,抑制了氧的扩散。
The oxidation behavior of Nb-20Si, Nb-20Si-10Al and Nb-20Si-15Al alloys was investigated by spark plasma sintering at 800 ℃. The phase composition and morphology of the oxide films were observed by XRD and SEM And analysis. The results show that there is glassy SiO2 in the oxide film of Nb-20Si-15Al, which makes the oxide film smooth and inhibits the diffusion of oxygen.
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