面向柔性光电子器件的微纳光制造关键技术与应用

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柔性光电子器件对微纳制造技术提出了更高、更多维度的要求,包括大幅面、表面复杂结构、跨尺度、透明或柔性基底等.主要介绍基于相位元件调制的3D激光直写技术和紫外连续变频光刻技术,它们可分别实现复杂表面浮雕结构和像素化纳米结构的精确制备.此外微纳结构限定性生长或涂布方法提供了一种绿色环保的材料功能化手段.借助微纳结构图形化、功能化平台,最后介绍了新型柔性光电子材料/器件的应用创新.可以预见,微纳光制造技术将推动柔性光电子产业的持续创新发展.
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