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研究了泡沫镍制备过程中脉冲电沉积镍工艺参数（电流密度、脉冲频率、占空比）对沉积速率、镍沉积层的晶体结构和微观形貌的影响。最佳脉冲电沉积工艺参数为：电流密度2.0A/dm2,脉冲频率1000Hz,占空比1：5。此时获得的镍沉积层结构平整,粒度分布均匀,晶体结构完整。
泡沫镍制备中脉冲电沉积镍研究
【摘 要】
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研究了泡沫镍制备过程中脉冲电沉积镍工艺参数（电流密度、脉冲频率、占空比）对沉积速率、镍沉积层的晶体结构和微观形貌的影响。最佳脉冲电沉积工艺参数为：电流密度2.0A/dm2,脉
【机 构】
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中国工程物理研究院,四川大学
【出 处】
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稀有金属材料与工程
【发表日期】
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2008年8期
【基金项目】
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中国工程物理研究院高温高密度等离子体重点实验室基金（9140C6805020607）
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