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阐述了用声阻抗法实时监测薄膜沉积的原理，介绍了一种使用个人计算机的实时测控系统。它可在真空镀膜的过程中对膜厚进行实时测量和控制，允许使用多个石英晶体探头，以适应多源共蒸发真空镀膜的需要。监测的过程和结果可以存储下来进行分析。为优化镀膜工艺提供了很大的方便。
薄膜厚度的多探头计算机实时测控系统
【摘 要】
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阐述了用声阻抗法实时监测薄膜沉积的原理，介绍了一种使用个人计算机的实时测控系统。它可在真空镀膜的过程中对膜厚进行实时测量和控制，允许使用多个石英晶体探头，以适应多源共
【机 构】
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复旦大学材料科学系
【出 处】
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真空科学与技术
【发表日期】
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2001年2期
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