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综述了目前钛酸锶钡（BST）铁电薄膜最为常用的4种制备工艺：磁控溅射法（Magnetron Sputtering）、脉冲激光沉积法（PLD）、溶胶-凝胶法（Sol—gel）、金属有机物化学气相沉积法（MOCVD）。并介绍了在优化BST铁电薄膜性能方面所作的工作和取得的成果。
钛酸锶钡铁电薄膜的制备与性能优化研究
【摘 要】
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综述了目前钛酸锶钡（BST）铁电薄膜最为常用的4种制备工艺：磁控溅射法（Magnetron Sputtering）、脉冲激光沉积法（PLD）、溶胶-凝胶法（Sol—gel）、金属有机物化学气相沉积法（MOCVD）。并介绍
【机 构】
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电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室
【出 处】
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绝缘材料
【发表日期】
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2007年4期
【基金项目】
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国家973项目资助（Z201）
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