通过电化学沉积法从N,N-二甲基甲酰胺(DMF)溶液中制备出铜掺杂氧化镍电致变色薄膜,采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、紫外-可见分光光度仪(UV-vis)、傅里叶变换红外光谱仪(FTIR)、计时阶跃曲线(CA)和循环伏安曲线(CV)对所制备的薄膜进行了形貌、结构、光学以及电化学性能的观测和表征。通过对不同掺杂原子数分数、沉积电位以及沉积时间下所制备薄膜的光学性能的研究,得到了薄膜制备的优化工艺条件。结果表明,在室温下,当掺杂原子数分数比例为1∶8、沉积电压为3.5V和沉积时间为15min时,薄膜具有最佳的电致变色性能,透射率差值最大可达到78.7%;Cu掺杂产生了具有纳米棒状结构的物质,经XRD证实为面心立方型NixCu1-xO;电化学测试结果显示薄膜的响应时间较短,且具有较好的循环寿命。