在解复用模块设计中有效折射率变化的研究

来源 :光电子·激光 | 被引量 : 0次 | 上传用户：ivan_wongxc

【摘要】

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研究了基于SOI(silicon-on-insulator)材料的阵列波导光栅(AWG)分波器件,给出了此器件材料色散的数值拟合公式,进而利用BPM方法研究了材料色散脊型波导结构变化和器件制做中

【作者】

：

邱海军刘育梁李芳贺月娇田珂珂辛红丽

【机构】

：

中国科学院半导体研究所

【出处】

：

光电子·激光

【发表日期】

：

2003年11期

【关键词】

：

阵列波导光栅有效折射率波分复用刻蚀光分插复用解复用 optical add/drop multiplexer(OADM) multiplexier/d

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研究了基于SOI(silicon-on-insulator)材料的阵列波导光栅(AWG)分波器件,给出了此器件材料色散的数值拟合公式,进而利用BPM方法研究了材料色散脊型波导结构变化和器件制做中刻蚀深度误差对波导有效折射率和波分复用模块性能的影响.结果表明,刻蚀深度误差对模块性能优劣起关键作用.

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