【摘 要】
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陶瓷基复合材料制备温度过高一直是制约其引入主动冷却工艺、突破其本征使用温度的主要原因之一。采用差热（TG-DTA）、红外（IR）、X射线衍射（XRD）等分析测试手段,研究了聚碳硅烷（Polyc
【机 构】
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总后建筑工程研究所,国防科学技术大学航天与材料工程学院
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陶瓷基复合材料制备温度过高一直是制约其引入主动冷却工艺、突破其本征使用温度的主要原因之一。采用差热（TG-DTA）、红外（IR）、X射线衍射（XRD）等分析测试手段,研究了聚碳硅烷（Polycarbosilane,PCS）的裂解及化学转化过程,从理论上说明了先驱体聚碳硅烷（PCS）低温（〈1000℃）陶瓷化的可行性。结果表明：聚碳硅烷在750℃实现无机化,880℃开始结晶,即聚碳硅烷在高温合金耐受温度范围（〈1000℃）内,即可实现陶瓷化。以聚碳硅烷（PCS）为先驱体,炭纤维为增强体,采用先驱体浸渍裂解（
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