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目的 探讨准分子激光上皮下角膜磨镶术(LASEK)中应用0.02%丝裂霉素C(MMC)及术后短期(1周)应用地塞米松(DM),对术后角膜上皮下雾状浑浊(haze)形成的抑制作用.方法 LASEK 208例按用药不同分为MMC组101例(199眼)和MMC联合DM组107例(200眼).以统计学方法分析两组haze发生率.结果 MMC组中10眼(5.03%)出现Ⅱ级haze,未出现Ⅱ级以上haze;MMC联合DM组未出现Ⅱ级及以上haze.同一性别中两组Ⅱ级haze发生率差异均有统计学意义(P＜0.05).结论 在LASEK术中应用0.02%MMC联合术后短期内(1周)应用地塞米松,对术后haze的形成具有明显的抑制作用。