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金属有机物化学气相淀积(MOCVD)技术是当前研制和生产先进化合物半导体材料的最主要技术.本文结合GaN 材料生长的MOCVD系统研制,给出了MOCVD计算机控制系统,该系统采用工业控制计算机实现了整个系统的控制和管理,取得了满意的研究结果.
基于工业控制计算机的MOCVD控制系统设计
【摘 要】
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金属有机物化学气相淀积(MOCVD)技术是当前研制和生产先进化合物半导体材料的最主要技术.本文结合GaN 材料生长的MOCVD系统研制,给出了MOCVD计算机控制系统,该系统采用工业控
【机 构】
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西安电子科技大学陕西西安710071
【出 处】
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现代电子技术
【发表日期】
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2004年10期
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