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为了提高ICF精密制靶的质量,提出用微波等离子体(MP)技术,包括等离子体薄膜制备、等离子体反应性离子束刻蚀、聚焦离子束刻蚀、掺杂纳米金属粉末制备和掺杂纳米金属粉末的表面包覆改性等技术,去加以改进和解决.此方法与其它成膜技术相结合,在ICF精密制靶中得到广泛应用.
微波等离子体技术在ICF制靶中的应用
【摘 要】
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为了提高ICF精密制靶的质量,提出用微波等离子体(MP)技术,包括等离子体薄膜制备、等离子体反应性离子束刻蚀、聚焦离子束刻蚀、掺杂纳米金属粉末制备和掺杂纳米金属粉末的表
【机 构】
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中国工程物理研究院
【出 处】
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强激光与粒子束
【发表日期】
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2004年8期
【基金项目】
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国家自然科学基金
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