【摘 要】
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在不同条件下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜. 薄膜的电子结构和元素成分用傅里叶变换红外光谱(FTIR)和光电子能谱(XPS)进行分析, 薄膜的光学性质用紫外可见近红外光谱(UV)
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在不同条件下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜. 薄膜的电子结构和元素成分用傅里叶变换红外光谱(FTIR)和光电子能谱(XPS)进行分析, 薄膜的光学性质用紫外可见近红外光谱(UV)进行检测. 薄膜中的最大氮原子含量达到0.47, C1s和N1s电子的结合能产生了+2.41～-1.7eV的移动, 移动的大小取决于制备条件. UV谱表明氮化碳薄膜能强烈地吸收紫外光, 而对红外光有较好的透明性, 在2720nm附近存在一明锐的吸收峰, 并给出了形成这一明锐吸收峰的适宜条件. 这些结果对作为保护光学涂层的红外应用是
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