以低熔点金属为催化剂的CVD方法制备硅及硅氧化物纳米材料

来源 :影像科学与光化学 | 被引量 : 0次 | 上传用户：xuguai19811025

【摘要】

：

一维硅纳米材料由于具有优越的电子学、光学特性以及能够与传统的硅基工业相兼容等特点,使其控制制备倍受科研工作者的关注.在众多一维硅纳米材料的控制合成方法中,经典的气

【作者】

：

王建涛张晓宏

【机构】

：

中国科学院理化技术研究所

【出处】

：

影像科学与光化学

【发表日期】

：

2011年4期

【关键词】

：

金属催化剂硅氧化物纳米材料低熔点金属制备 CVD 一维纳米结构合成方法

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一维硅纳米材料由于具有优越的电子学、光学特性以及能够与传统的硅基工业相兼容等特点,使其控制制备倍受科研工作者的关注.在众多一维硅纳米材料的控制合成方法中,经典的气相-液相-固相（VLS）机制下的催化剂诱导生长是一种极为重要的控制合成方法.在VLS机制中,金属催化剂是影响一维纳米结构生长的最重要的因素之一,

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