论文部分内容阅读
纳米光刻技术在微电子制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之一.我们使用VB5电子束曝光系统,经过工艺研究,现已研究出最细分辨率剥离金属条为17nm,最小剥离电极间距为10nm,最细T型栅为100nm.
电子束纳米光刻技术研究
【摘 要】
：
纳米光刻技术在微电子制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之一.我们使用VB5电子束曝光系统,经过工艺研究,现已研究出最细分辨率剥离金属条为1
【机 构】
：
中国电子科技集团公司第十三研究所,河北,石家庄,050051
【出 处】
：
中国微米/纳米第六届学术年会
【发表日期】
：
2003年8期
其他文献
单机产品是构成航天型号项目的基本元素,是航天型号质量管理最基础的环节,也是型号项目成败的关键。作为单机产品研制模式之一的新研单机,其在研制过程中存在着大量技术风险
近年来,随着天然气这种清洁高效能源被广泛应用,LNG的国际贸易也得到了快速发展。分析当前LNG市场的发展概况和影响LNG运输船供需情况的各项因素：LNG的生产和供应能力,国际市