【摘 要】
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为了制备可以在磁场中悬浮的ICF(惯性约束聚变)靶丸,采用化学镀法对空心PS靶丸包覆Ni-P合金磁性镀层.化学镀Ni-P合金工艺条件为:NiSO4·6H2O为30g/L,NaH2PO2为30g/L,焦磷酸钠
【机 构】
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西南科技大学材料科学与工程学院,绵阳,621010;陕西理工学院物理系,汉中,723003
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为了制备可以在磁场中悬浮的ICF(惯性约束聚变)靶丸,采用化学镀法对空心PS靶丸包覆Ni-P合金磁性镀层.化学镀Ni-P合金工艺条件为:NiSO4·6H2O为30g/L,NaH2PO2为30g/L,焦磷酸钠为60g/L,pH值为10.5,温度为40℃.采用SEM、DSC、VSM分析镀层结构、形貌以及磁性,结果表明:Ni-P镀层在PS微球表面沉积均匀,表面光滑;微球的饱和磁化强度为1.074×10-2 emu,所具有的磁性可使其在磁场中悬浮.
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