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以安祖花的叶片为材料，研究安祖花组织培养的适宜条件。结果表明：最佳消毒条件为0．1％的升汞消毒5～6min诱导产生愈伤组织的最佳培养基为：1／2MS＋KT0．1mg/L＋6-BA0．05mg／L＋2．4-D0．4mg／L）；诱导产生丛生芽的最佳培养基为：1／2MS＋6-BA0．3mg／L＋NAA0．2mg／L＋KT0．05mg／L；诱导生根的最佳培养基为：1／2MS＋NAA0．05mg／L。