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在氩气的气氛中采用直流磁控溅射方法，在玻璃基片上制备铂薄膜热敏电阻，并对铂薄膜的微观组织进行分析，同时研究了磁控溅射镀膜工艺参数对制备铂薄膜的影响，分析了参数中溅射功率、溅射时间与膜厚的关系。并利用Matlab软件建立了溅射时间、溅射功率与膜厚的三维关系模型图。
磁控技术成膜的工艺研究与微观表征分析
【摘 要】
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在氩气的气氛中采用直流磁控溅射方法，在玻璃基片上制备铂薄膜热敏电阻，并对铂薄膜的微观组织进行分析，同时研究了磁控溅射镀膜工艺参数对制备铂薄膜的影响，分析了参数中溅射功率
【机 构】
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哈尔滨理工大学应用科学学院,哈尔滨理工大学测试技术与通讯工程学院
【出 处】
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科技信息
【发表日期】
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2007年2期
【基金项目】
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哈尔滨市科技攻关项目“环境白适应热膜风速传感器研究”（编号2002 功CG040）.国防基础“微机械加工超薄膜型Pt膜温度传感器技术研究”（编号：K1403061112）.
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