【摘 要】
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薄膜材料已在半导体材料、超导材料、生物材料、微电子元件等方面得到广泛应用。为了得到高质量的薄膜材料,脉冲激光沉积技术受到了广泛的关注。本文介绍了脉冲激光沉积(PLD)
【机 构】
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武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,
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薄膜材料已在半导体材料、超导材料、生物材料、微电子元件等方面得到广泛应用。为了得到高质量的薄膜材料,脉冲激光沉积技术受到了广泛的关注。本文介绍了脉冲激光沉积(PLD)薄膜技术的原理及特点,分析了脉冲激光沉积技术在功能薄膜材料中的应用和研究现状,并展望了该技术的应用前景。
Thin film materials have been widely used in semiconductor materials, superconducting materials, biological materials, microelectronic components and so on. In order to obtain high-quality thin film materials, pulsed laser deposition technology has received widespread attention. This paper introduces the principles and characteristics of pulsed laser deposition (PLD) thin film technology, analyzes the application and research status of pulsed laser deposition technology in functional thin film materials, and prospects its application.
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