【摘 要】
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抛光轨迹和抛光力是抛光工艺中的两个重要参数,本文通过运用MCGS组态软件,触摸屏,PLC控制器等软硬件设备对原有的抛光机器人运动控制系统进行了改进,实验结果表明该系统达到
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抛光轨迹和抛光力是抛光工艺中的两个重要参数,本文通过运用MCGS组态软件,触摸屏,PLC控制器等软硬件设备对原有的抛光机器人运动控制系统进行了改进,实验结果表明该系统达到预期要求,更具实用性。
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