【摘 要】
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采用直流磁控溅射技术在自然氧化的Si基片上生长厚度约为100nm的原始态FePt：Ag纳米复合薄膜,采用高压退火调控该薄膜的微结构和矫顽力。在873 K温度下,当退火压力从常压增加到
【机 构】
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河北大学物理科学与技术学院,燕山大学材料科学与工程学院
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采用直流磁控溅射技术在自然氧化的Si基片上生长厚度约为100nm的原始态FePt：Ag纳米复合薄膜,采用高压退火调控该薄膜的微结构和矫顽力。在873 K温度下,当退火压力从常压增加到0.6 GPa时,退火后所生成的L10-FePt薄膜的有序畴尺寸从d=19 nm减小到D=9 nm,FePt薄膜的晶粒尺寸从D=34 nm减小到D=13nm,且有序畴尺寸和晶粒尺寸分布的均匀性明显提高。随着退火压力的增加FePt：Ag薄膜的矫顽力降低,因此,高压退火可以用来调控FePt：Ag复合薄膜的矫顽力。
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