调制周期对Ti-TiN多层薄膜光学和电学性能的影响研究

来源 :昆明理工大学学报(理工版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：cxhhhsy

【摘要】

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采用反应直流磁控溅射法,在Si（111）基底上制备一系列不同结构的Ti/TiN多层薄膜.研究了溅射沉积过程中调制结构对周期薄膜光电性能的影响.研究结果表明：电阻率随着周期层数的增大

【作者】

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胡敏刘莹

【机构】

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南昌大学机电工程学院

【出处】

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昆明理工大学学报(理工版)

【发表日期】

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2010年4期

【关键词】

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磁控溅射 Ti/TiN薄膜调制结构反射率方块电阻 magnetron sputtering Ti/TiN multilayer film modula

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采用反应直流磁控溅射法,在Si（111）基底上制备一系列不同结构的Ti/TiN多层薄膜.研究了溅射沉积过程中调制结构对周期薄膜光电性能的影响.研究结果表明：电阻率随着周期层数的增大而减小;周期层数增加时薄膜近红外反射率增大;当调制周期为25 nm时,薄膜方块电阻最小,同时薄膜红外反射率最大;修正了红外反射率RIR近似计算公式的系数.

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