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采用磁控溅射法在不同气压下溅射石墨靶制备多种a-C基体并在其上沉积WSx薄膜.采用扫描电镜、能谱仪、原子力显微镜、X射线衍射仪、Raman光谱仪和X射线光电子能谱对薄膜的形貌、成分、组织结构和元素价态等进行了表征.采用纳米压痕仪、划痕仪和球盘式摩擦磨损试验机对薄膜的硬度、结合力和摩擦学性能进行了测试.结果表明：a-C基底上WSx薄膜呈微晶或非晶结构,a-C沉积气压1.0Pa时WS2薄膜出现（101）晶面衍射峰.随着a-C基底沉积气压的升高,WSx薄膜表面先逐渐致密,后略有下降,ns/nw比呈下降趋势,显著