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纳米多层膜的物理性能和力学性能的异常效应均与其调制结构有关。采用X射线能量分散谱仪(EDS)成分分析方法对不同调制周期和调制比的W/Mo纳米多层膜进行表征，并与透射电子显微分析(TEM)和x射线衍射分析(XRD)方法进行了比较。结果表明：采用EDS成分分析方法，可以表征纳米多层膜的调制比。EDS方法与XRD分析相结合，可以方便而准确地表征纳米多层膜的调制结构。