【摘 要】
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<正> 随着电子工业的发展,中大规模集成电路对抛光片的质量要求愈来愈高,特别是表面效应型的MOS大规模集成电路对抛光片的质量要求更为突出,除了改进硅单晶材料性能外,在晶体
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<正> 随着电子工业的发展,中大规模集成电路对抛光片的质量要求愈来愈高,特别是表面效应型的MOS大规模集成电路对抛光片的质量要求更为突出,除了改进硅单晶材料性能外,在晶体加工过程中,要求提供高度平整无损伤的硅片,以便减少二次缺陷的引入.二次缺陷是在器件生产工艺中引进的,它的危害性很大,为了减少二次缺陷的引入,除了进一步改进器件生产工艺外,进一步提高抛光片的表面质量就很重要.因为抛光片表面损伤会使氧化、外延、扩散中产生大量的二次缺陷,如氧化层错、外延层错和
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