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采用射频磁控溅射法在射频溅射功率200W、镀膜时间10min的工艺条件下制备了锂离子电池用Sn薄膜负极材料。通过XRD、SEM、ICP、恒电流充放电对薄膜材料的结构、形貌及循环性能进行了表征。结果表明，该工艺下获得的Sn薄膜只出现了一个衍射峰Sn（220），表面分布均匀细小颗粒，平均颗粒大小约500nm。薄膜电极首次嵌锂容量为751mAh／g，30次循环后，嵌锂容量保持在500mAh／g以上。