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硅纳米线阵列由于其较强的光吸收能力及硅材料的丰富储量,被认为是最具大规模应用潜力的可见光光催化剂。针对硅材料在水相环境中不稳定这一瓶颈问题,本文提出了对硅纳米线阵列＂先稳定、再活化＂的修饰策略。通过在硅纳米线表面修饰聚（乙撑二氧噻吩）使其稳定,之后再修饰银纳米颗粒以提高光催化效率,得到了高效、稳定的可见光光催化剂。并通过研究聚（乙撑二氧噻吩）的厚度及银纳米颗粒的担载量对光催化剂性能的影响,得到了最佳的修饰条件。