反应溅射Ti-Si-N纳米晶复合薄膜研究

来源 :电子显微学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zuochangfeng

【摘要】

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Veprek等[1]报道了采用气相沉积方法获得硬度高达80～105GPa的Ti-Si-N薄膜,令人惊讶!尽管尚无人从实验上重复出这一结果,但大量研究[2]表明,在TiN或其他过渡金属化合物中加入Si

【作者】

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戴嘉维胡祖光祝新发陈练李戈扬

【机构】

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上海交通大学材料科学与工程学院,上海工具厂有限公司

【出处】

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电子显微学报

【发表日期】

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2004年4期

【关键词】

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钛-硅-氮复合薄膜纳米晶体反应溅射法透射电子显微镜结构分析

【基金项目】

：

上海市专利技术二次开发项目

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Veprek等[1]报道了采用气相沉积方法获得硬度高达80～105GPa的Ti-Si-N薄膜,令人惊讶!尽管尚无人从实验上重复出这一结果,但大量研究[2]表明,在TiN或其他过渡金属化合物中加入Si,形成以Si3N4界面相分隔并包裹氮化物纳米晶的微结构的确是一条通过微结构设计获得高硬度薄膜的有效途径.

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