采用65nm工艺实现宽频带低相位噪声的LC-VCO

来源 :杭州电子科技大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：zml19881209

【摘要】

：

介绍了采用65 nm工艺实现宽频带和低相位噪声LC-VCO。利用相邻两层金属以及多层金属之间的寄生电容来实现堆积式MOM电容。开关阵列电容采用所述的堆积电容来实现,在实现宽频

【作者】

：

郑丽斌高海军孙玲玲

【机构】

：

杭州电子科技大学射频电路与系统教育部重点实验室

【出处】

：

杭州电子科技大学学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2015年3期

【关键词】

：

压控振荡器宽频带开关电容阵列闪烁噪声堆积式MOM电容 voltage controlled oscillator wideband switched c

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介绍了采用65 nm工艺实现宽频带和低相位噪声LC-VCO。利用相邻两层金属以及多层金属之间的寄生电容来实现堆积式MOM电容。开关阵列电容采用所述的堆积电容来实现,在实现宽频带调谐的基础上可减小VCO的调谐增益。在交叉耦合MOS管的漏极插入电阻来抑制有源器件中闪烁噪声,这种非谐振方式可保证闪烁噪声的抑制在宽频带范围内有效。压控振荡器采用65 nm CMOS工艺实现,测试得到的调谐频率范围为2.7 GHz 1.3 GHz;输出频率为1.3 GHz时的相位噪声为-124 d Bc/Hz@1 MHz;供电电压为

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