非晶态镍磷合金晶化过程的研究

来源 :表面技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:scholar165
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
利用光学显微镜、透射电子显微镜、X射线衍射仪和显微硬度计,研究了非晶态镍磷合金镀层晶化过程及镀层的组织和性能。结果表明:200~260℃口热,镀层的局部区域已发生晶化;280℃热处理后晶化过程加快;400℃热处理后晶化完全;500℃加热处理后晶粒开始长大。表明非晶态Ni—P合金的晶化在200~400%温度范围内进行,晶化过程中,弥散析出的Ni3P相具有调幅结构。大量高硬度的Ni3P相弥散析出,使镀层硬度大大提高。
其他文献
采用离子束辅助沉积技术(IBED)制备了一系列碳膜,重点分析辅助气体CH4、Ar对碳膜组成相、电阻率、厚度和硬度的影响。结果表明:采用CH4辅助轰击制得的薄膜厚度高于采用Ar辅助轰击