【摘 要】
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制作了一种基于光电流检测的分子印迹传感器,并应用于Ni~（2＋）测定。此传感器以Cd Te量子点为光电材料,将量子点覆盖在导电玻璃表面,并在此层上以光聚合法制作镍-1-（2-吡啶偶氮）-2-
【机 构】
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广西电磁功能物质重点实验室、桂林理工大学化学与生物工程学院
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制作了一种基于光电流检测的分子印迹传感器,并应用于Ni~（2＋）测定。此传感器以Cd Te量子点为光电材料,将量子点覆盖在导电玻璃表面,并在此层上以光聚合法制作镍-1-（2-吡啶偶氮）-2-萘酚（PAN）分子印迹膜。365 nm紫外光作为激发光源,量子点在光照下生成电子-空穴对,电子与电子受体-抗坏血酸作用形成的光电流作为检测信号,根据＂门效应＂进行Ni2＋检测。实验中对配合物进行了红外表征,对量子点进行了紫外和荧光表征,对洗脱吸附时间和底液中抗坏血酸浓度的用量进行了优化。实验表明Ni2＋浓度在5
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