ITO透明导电薄膜的制备工艺研究

来源 :光电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wo7ni1
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采用溶胶-凝胶法以InCl3·4H2O和SnCl4·5H2O为前驱物在玻璃基片上制备了ITO透明导电薄膜。详细研究了热处理初始温度、溶胶浓度、热处理温度、热处理时间、铟锡比例以及镀膜层数对薄膜光电特性的影响,得出了最佳工艺条件。结果表明,采用最佳工艺制备的ITO透明导电薄膜为体心立方的In2O3结构,Sn^4+离子取代In2O3晶格中的In^3+离子,样品不含低价氧化锡,薄膜方阻达到600n/口,可见光透过率达到83%。
其他文献
首先利用远场光斑测量法,测得GY-10型He—Ne激光器的远场发散角为1.15mrad。接着,根据高斯光束对望远镜系统变换,通过两个望远镜实现He—Ne激光束的准直,得到水平方向的远场发散角