C-N化合物合成研究

来源 :原子核物理评论 | 被引量 : 0次 | 上传用户：ws2005102

【摘要】

：

用能量 50 - 1 1 0 ke V的 N离子在低于 80°C温度下注入 CVD法合成的金刚石薄膜后 ,分别用 X射线光电子谱、红外谱和拉曼谱检测注入后的薄膜中是否形成了 C- N化合物 .结果

【作者】

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谢二庆金运范王志光贺德衍

【机构】

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中国科学院近代物理研究所,甘肃,兰州,730000兰州大学物理系,甘肃,兰州,730000;中国科学院近代物理研究所,甘肃,兰州,730000;兰州大学物理系,甘肃,兰州,730000;

【出处】

：

原子核物理评论

【发表日期】

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2000年03期

【关键词】

：

离子注入金刚石薄膜碳氮化合物

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用能量 50 - 1 1 0 ke V的 N离子在低于 80°C温度下注入 CVD法合成的金刚石薄膜后 ,分别用 X射线光电子谱、红外谱和拉曼谱检测注入后的薄膜中是否形成了 C- N化合物 .结果表明注入后的薄膜中存在有 3种化学键态的 C- N化合物 ,且低能离子注入更有利于 C- N化合物的形成 .由于在注入区内形成了大量的 C- N单键 ,这有利于β- C3N4 的合成 .对 C- N化合物薄膜的场发射特性也做了研究

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