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采用电化学沉积法在GH3230板材基底上制备了纯立方相镍单质修复层,通过优化沉积条件,研究了沉积电位、沉积时间、沉积溶液的质量浓度及pH值对修复层结构和性能的影响。采用优化的沉积条件,制得的修复层表面致密平整、硬度高、与基底的结合力良好,适合于在高温合金基底上进行修复层的制备。
纯相镍修复层的电化学制备及结构性能分析
【摘 要】
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采用电化学沉积法在GH3230板材基底上制备了纯立方相镍单质修复层,通过优化沉积条件,研究了沉积电位、沉积时间、沉积溶液的质量浓度及pH值对修复层结构和性能的影响。采用优
【机 构】
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中国航空制造技术研究院
【出 处】
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电加工与模具
【发表日期】
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2020年3期
【基金项目】
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国家科技重大专项(2017-Ⅶ-0004-0097)
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