CdSe探测器晶片化学机械抛光工艺研究

来源 :人工晶体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wjlwny110
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采用相同温度、刚玉粉、抛光时间和不同方式配制成抛光液,对4组CdSe晶片进行抛光。研究结果表明,采用化学机械抛光能较大地提高晶片的抛光质量。通过用不同pH值的抛光液对CdSe晶片进行抛光,发现用NaOH将抛光液pH值调整为8的一组CdSe晶片,获得了最好的抛光效果,电阻率较高,达到3.2×10^8Ω·cm以上,适合CdSe探测器制备。
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