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基片表面状态对Pb1-xGexTe薄膜红外光学性能的影响
基片表面状态对Pb1-xGexTe薄膜红外光学性能的影响
来源 :红外 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zibzibzib
【摘 要】
:
在高真空中用热蒸发的方法沉积了碲锗铅(Pb_(1-x)Ge_xTe)薄膜。分析了基片表面状态(粗糙度、晶向、温度)对膜层结构和红外光学特性的影响,发现光滑表面容易得到致密膜层和高红外折
【作 者】
:
谢平
李斌
张素英
刘定权
【机 构】
:
中国科学院上海技术物理研究所
【出 处】
:
红外
【发表日期】
:
2010年9期
【关键词】
:
Pb1-xGexTe
表面状态
红外薄膜
光学常数(n
k)
Pb1-xGexTe
surface status
infrared film
optica
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在高真空中用热蒸发的方法沉积了碲锗铅(Pb_(1-x)Ge_xTe)薄膜。分析了基片表面状态(粗糙度、晶向、温度)对膜层结构和红外光学特性的影响,发现光滑表面容易得到致密膜层和高红外折射率;随着沉积温度的增加,膜层的短波吸收边(λ_c)往长波方向移动。
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