【摘 要】
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采用传统的光刻技术制备平栅极场致发射阴极阵列,利用水热法原位合成ZnO 发射源,并组装成平栅极ZnO 场致发射电子源;利用光学显微镜、SEM 和XRD表征其微观结构,分析ZnO 发射
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采用传统的光刻技术制备平栅极场致发射阴极阵列,利用水热法原位合成ZnO 发射源,并组装成平栅极ZnO 场致发射电子源;利用光学显微镜、SEM 和XRD表征其微观结构,分析ZnO 发射源的生长机制,并结合场发射测试系统研究其发射特性.结果表明,ZnO 发射源是平均直径为300nm 的六方纤锌矿氧化锌纳米棒,且沉积在平栅极场致发射阴极阵列的阴极电极表面.场发射测试表明,平栅极ZnO 场致发射电子源的发射特性完全由栅极控制.当阳极电压为2000V,器件的开启电压为150V;当栅极电压为275V 时,发射电流可达
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