【摘 要】
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为研究不同ZrB2溅射功率对Zr-B-Nb-N纳米复合膜结构和机械性能的影响,利用磁控多靶共溅射的方法,在不同ZrB2溅射功率下制备基底温度分别为室温和100℃的Zr-B-Nb-N薄膜,并应用
【机 构】
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天津师范大学物理与材料科学学院,天津师范大学天津储能材料表面技术国际联合研究中心
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为研究不同ZrB2溅射功率对Zr-B-Nb-N纳米复合膜结构和机械性能的影响,利用磁控多靶共溅射的方法,在不同ZrB2溅射功率下制备基底温度分别为室温和100℃的Zr-B-Nb-N薄膜,并应用XP-2表面轮廓仪测得镀层厚度和残余应力,利用X线衍射（XRD）测得复合膜的结构和晶向,利用电子显微镜（TEM）观察断面形貌,采用纳米压痕仪对薄膜进行划痕实验并测量薄膜的硬度、弹性模量和膜基结合力.实验结果表明:ZrB2溅射功率为100 W时,复合膜具有ZrB2（001）和ZrB2（002）择优取向和非晶态Nb N包
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