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用自行设计的RF-PCVD(射频辉光放电等离子体化学气相沉积)设备沉积类金刚石膜,并对膜的力学、光学、化学性能进行了分析.表明用该设备制备的类金刚石膜具有显微硬度高、磨擦系数小、膜基结合力高、对红外有良好的增透性,并且耐磨耐蚀、化学稳定性好.
射频辉光放电等离子体化学气相沉积类金刚石膜的性能研究
【摘 要】
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用自行设计的RF-PCVD(射频辉光放电等离子体化学气相沉积)设备沉积类金刚石膜,并对膜的力学、光学、化学性能进行了分析.表明用该设备制备的类金刚石膜具有显微硬度高、磨擦
【机 构】
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华南理工大学机械工程学院,深圳市雷地科技实业有限公司
【出 处】
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真空科学与技术
【发表日期】
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2002年5期
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