影响铝合金微弧氧化成膜效率的因素分析

来源 :大连海事大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hjh8607
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为了解决目前微弧氧化技术中存在的高电能消耗及低处理效率问题,采用低能耗微弧氧化工艺在铝表面制备氧化物陶瓷膜层,测量并分析电解液成分和质量密度、工艺条件对成膜效率的影响,研究了影响铝合金微弧氧化成膜效率的因素和作用机理,提出了降低工艺能耗的技术途径.结果表明:通过改变添加剂成分和质量浓度、脉宽、峰值电压和处理时间等工艺参数可以有效提高陶瓷膜层沉积效率.在制备过程中平均电流密度均能控制在1 A/dm2以下,平均单位成膜效率为2.8~3.2 kW.h/(m2.μm),获得膜层厚度为25~30μm.所制备的氧化铝陶瓷层的相结构、厚度、粗糙度和硬度等参数与通常微弧氧化技术制备的陶瓷膜相似. In order to solve the problems of high electric energy consumption and low processing efficiency in current micro-arc oxidation technology, a low-energy micro-arc oxidation process is used to prepare an oxide ceramic film on an aluminum surface to measure and analyze the electrolyte composition and the mass density. Film efficiency, the factors that affect the efficiency of micro-arc oxidation of aluminum alloy and the mechanism of action were studied, and the technical ways to reduce the process energy consumption were put forward.The results showed that by changing the composition and mass concentration of additive, pulse width, peak voltage and treatment Time and other process parameters can effectively improve the deposition efficiency of the ceramic film.The average current density in the preparation process can be controlled below 1 A / dm2, the average unit film forming efficiency of 2.8 ~ 3.2 kW.h / (m2.μm), obtain The thickness of the film is 25 ~ 30μm.The phase structure, thickness, roughness and hardness of the prepared alumina ceramic layer are similar to the ceramic films prepared by the conventional microarc oxidation technique.
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